Οξική 4-αιθενυλφαινόλη CAS 2628-16-2

Το Ρ-ακετοξυστυρένιο μπορεί να χρησιμοποιηθεί για τη σύνθεση πολυπαραϋδροξυ-στυρολίου ως κύριο συστατικό ενός φωτοευαίσθητου (φωτοανθεκτικού). Οι σειρές πολυ-ρ-υδροξυστυρολίου των χημικά ενισχυμένων φωτοανθεκτικών είναι επί του παρόντος τα κύρια προϊόντα φωτοανθεκτικά στον κόσμο και αποτελούν μία από τις βασικές τεχνολογίες επεξεργασίας ολοκληρωμένων κυκλωμάτων φωτογράφησης και τσιπ παρασκευής. Η τεχνολογία φωτοχρωματισμού αναπτύσσεται από την παραγωγή πλάτους γραμμής 0,3-0,28μm στο βαθύ υπεριώδες φως (μήκος κύματος 248nm) για να παράγει πλάτος γραμμής 0,18μm και το εξαιρετικά βαθύ υπεριώδες φως (μήκος κύματος 193nm) μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την ανίχνευση πλάτος γραμμής σε 0. Μικροκυκλωμάτων 11 μm. Ο φωτοευαίσθητος παράγοντας 248nm συνήθως χρησιμοποιεί παράγωγο πολυ-ρ-υδροξυστυρενίου ως ρητίνη σχηματισμού υμενίου, άλας αρυλο-ιωδονίου ή άλας σουλφονίου ως γεννήτρια φωτοοξέων, χρησιμοποιώντας τεχνολογία χημικής ενίσχυσης για την απελευθέρωση της γεννήτριας φωτοξέων υπό το φως Το οξύ, κατόπιν το οξύ καταλύει την διασταύρωση του πολυμερούς αρνητική ζελατινοποίηση) ή την αντίδραση αποπροστασίας (θετική ζελατινοποίηση), αυξάνοντας έτσι σημαντικά την φωτοευαισθησία.